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磁控濺射鍍膜儀
  • 桌面型射頻磁控濺射鍍膜... 本設(shè)備為射頻磁控濺射鍍膜儀,可用于金屬薄膜的制備,在電子領(lǐng)域、光學(xué)領(lǐng)域、特殊陶瓷制備等領(lǐng)域均有應(yīng)用,也可實驗室SEM樣品...
  • 桌面型偏壓單靶磁控濺射... 本設(shè)備為帶偏壓的桌面型單靶磁控鍍膜儀,可用于一般金屬薄膜的制備。設(shè)備同時配有偏壓電源,可以用來進(jìn)行進(jìn)行濺射前的等離子清洗...
  • 桌面型不銹鋼腔體單靶磁... 本設(shè)備為桌面型不銹鋼腔體單靶磁控鍍膜儀,可用于金屬薄膜的制備,在電子領(lǐng)域、光學(xué)領(lǐng)域、特殊陶瓷制備等領(lǐng)域均有應(yīng)用,也可實驗...
  • 桌面型單靶磁控濺射鍍膜... 本設(shè)備為單靶磁控鍍膜儀,可用于金屬薄膜的制備,在電子領(lǐng)域、光學(xué)領(lǐng)域、特殊陶瓷制備等領(lǐng)域均有應(yīng)用,也可實驗室SEM樣品制備
  • 磁控濺射鍍膜儀帶振動樣... 帶振動樣品臺的三靶磁控濺射鍍膜儀為我公司研發(fā)的配有三個靶位的實驗室專用于處理粉末及顆粒樣品的鍍膜儀,設(shè)備配有兩臺直流電源...
  • 桌面型石英腔體單靶磁控... 本設(shè)備為桌面型單靶磁控鍍膜儀。設(shè)備經(jīng)過小型化設(shè)計,將設(shè)備外形限制在了桌面級別,大大減少了安裝場地需求。設(shè)備配有一個直流電...
  • 桌面型偏置靶單靶磁控鍍... 單靶磁控鍍膜儀配有一個直流電源,可用于金屬及其他導(dǎo)電材料的濺射。單靶磁控鍍膜儀真空系統(tǒng)采用渦輪分子泵組,抽氣速度快,極限...
  • 行星式單靶磁控鍍膜儀 本設(shè)備為桌面型行星式單靶磁控鍍膜儀,腔體下半部為不銹鋼機構(gòu),上部為高純石英,兼顧了真空性能和容納復(fù)雜樣品臺的功能型。設(shè)備...
  • 桌面型靶下置型磁控鍍膜... 本設(shè)備為桌面型單靶磁控鍍膜儀。設(shè)備經(jīng)過小型化設(shè)計,將設(shè)備外形限制在了桌面級別,大大減少了安裝場地需求。設(shè)備配有一個直流電...
  • 傾斜樣品臺式單靶磁控鍍... 本設(shè)備為傾斜樣品臺式單靶磁控鍍膜儀,樣品臺與靶面的角度可調(diào),可用于制作特定生長角度的薄膜。設(shè)備外形為桌面級別,大大減少了...
  • 桌面型不銹鋼腔體雙靶磁... 雙靶磁控鍍膜儀,可用于金屬薄膜的制備,在電子領(lǐng)域、光學(xué)領(lǐng)域、特殊陶瓷制備等領(lǐng)域均有應(yīng)用,也可實驗室SEM樣品制備
  • ?桌面型雙靶直流磁控鍍... ?桌面型雙靶直流磁控鍍膜儀可用于金屬薄膜的制備,在電子領(lǐng)域、光學(xué)領(lǐng)域、特殊陶瓷制備等領(lǐng)域均有應(yīng)用,尤其是實驗室SEM樣品...
  • 雙靶DCRF磁控濺射鍍... 雙靶DCRF磁控濺射鍍膜儀(靶下置型)采用靶下置樣品臺在上方的布局。雙靶DCRF磁控濺射鍍膜儀(靶下置型)兩個靶位,直流...
  • ?雙靶DCRF磁控濺射... ?雙靶DCRF磁控濺射鍍膜儀(往復(fù)樣品臺)配有一臺直流電源,一臺射頻電源,可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄...
  • 桌面型單靶磁控鍍膜儀(... 本設(shè)備為桌面型單靶磁控鍍膜儀。設(shè)備經(jīng)過小型化設(shè)計,將設(shè)備外形限制在了桌面級別,大大減少了安裝場地需求。設(shè)備配有一個高性能...
  • 桌面型單靶磁控鍍膜儀 本設(shè)備為桌面型單靶磁控鍍膜儀。設(shè)備經(jīng)過小型化設(shè)計,將設(shè)備外形限制在了桌面級別,大大減少了安裝場地需求。設(shè)備配有一個直流電...
  • UPS三靶磁控濺射鍍膜... 三靶磁控濺射鍍膜機是我公司自主研發(fā)的高性價比的磁控濺射鍍膜設(shè)備。 它是標(biāo)準(zhǔn)化,模塊化和可定制的。 該裝置可用于制備單層...
  • 桌面型雙靶磁控鍍膜儀 CY-MSP210S-RFD桌面型雙靶磁控鍍膜儀。設(shè)備經(jīng)過小型化設(shè)計,在保留高真空不銹鋼腔體的同時,精簡了其他機構(gòu),將設(shè)...
  • 往復(fù)樣品臺單靶磁控鍍膜... 桌面型單靶磁控鍍膜儀是我公司自主研發(fā)的一款高性價比磁控濺射鍍膜設(shè)備,具有小型化、標(biāo)準(zhǔn)化的特點。磁控靶有1英寸、2英寸可以...
  • 三靶磁控濺射鍍膜儀雙電... 三靶磁控濺射鍍膜儀是我公司自主研發(fā)的一款高性價比磁控濺射鍍膜設(shè)備,具有標(biāo)準(zhǔn)化、模塊化、可定制化的特點。磁控靶有1英寸2英...

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