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產(chǎn)品詳情
  • 產(chǎn)品名稱:桌面型偏置靶單靶磁控鍍膜儀

  • 產(chǎn)品型號:CY-MSZ300-I-DC-Q
  • 產(chǎn)品廠商:成越科儀
  • 產(chǎn)品文檔:
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簡單介紹:
單靶磁控鍍膜儀配有一個(gè)直流電源,可用于金屬及其他導(dǎo)電材料的濺射。單靶磁控鍍膜儀真空系統(tǒng)采用渦輪分子泵組,抽氣速度快,極限真空度高,真空性能優(yōu)異。本設(shè)備結(jié)構(gòu)緊湊功能完善便于使用,非常適合用于各類鍍膜試驗(yàn)
詳情介紹:

本設(shè)備為偏置靶型單靶磁控鍍膜儀,磁控靶偏置于腔體一側(cè),濺射范圍可覆蓋樣品臺一半,通過樣品臺旋轉(zhuǎn)可以實(shí)現(xiàn)更大樣品的均勻鍍膜。理論*大支持樣品直徑為180mm。設(shè)備外形為桌面級別,大大減少了安裝場地需求。設(shè)備配有一個(gè)直流電源,可用于金屬及其他導(dǎo)電材料的濺射。設(shè)備真空系統(tǒng)采用渦輪分子泵組,抽氣速度快,極限真空度高,真空性能優(yōu)異。本設(shè)備結(jié)構(gòu)緊湊功能完善便于使用,非常適合用于各類鍍膜試驗(yàn)。

偏置靶型單靶磁控鍍膜儀技術(shù)參數(shù):

CY-MSZ300G-I-DC-Q  桌面型大腔體偏置靶單靶磁控鍍膜儀

樣品臺

尺寸

φ150mm

轉(zhuǎn)速

轉(zhuǎn)速0-20rpm可調(diào)

磁控濺射靶

數(shù)量

2” x1  偏置于腔體一側(cè) 

真空腔體

腔體尺寸

φ300mm X 200mm

觀察窗口

全向可視

腔體材料

高純石英

開啟方式

頂蓋拆卸式

下法蘭

裝有旋轉(zhuǎn)式樣品臺及進(jìn)出氣口

真空系統(tǒng)

機(jī)械泵

雙級旋片泵

抽氣接口

KF16

分子泵

渦輪分子泵

抽氣接口

KF40

真空測量

電阻規(guī)+電離規(guī)復(fù)合真空計(jì)

排氣接口

KF40

極限真空

1.0E-3Pa

供電電源

AC 220V 50/60Hz

抽氣速率

前級泵 1.1L/s 分子泵:60L/S

電源配置

數(shù)量

直流電源 x1

*大輸出功率

直流電源300W

 

其他

供電電壓

AC220V,50Hz

整機(jī)尺寸

500mm X 320mm X6200mm

整機(jī)功率

2kW 



豫公網(wǎng)安備 41019702002438號

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