產(chǎn)品分類
- 磁控濺射鍍膜儀
- 熱蒸發(fā)鍍膜儀
- 高溫熔煉爐
- 等離子鍍膜儀
- 可編程勻膠機
- 涂布機
- 等離子清洗機
- 放電等離子燒結爐
- 靜電紡絲
- 金剛石切割機
- 快速退火爐
- 晶體生長爐
- 真空管式爐
- 旋轉管式爐
- PECVD氣相沉積系統(tǒng)
- 熱解噴涂
- 提拉涂膜機
- 二合一鍍膜儀
- 多弧離子鍍膜儀
- 電子束，激光鍍膜儀
- CVD氣相沉積系統(tǒng)
- 立式管式爐
- 1200管式爐
- 高溫真空爐
- 氧化鋯燒結爐
- 高溫箱式爐
- 箱式氣氛爐
- 高溫高壓爐
- 石墨烯制備
- 區(qū)域提純爐
- 微波燒結爐
- 粉末壓片機
- 真空手套箱
- 真空熱壓機
- 培育鉆石
- 二硫化鉬制備
- 高性能真空泵
- 質量流量計
- 真空法蘭
- 混料機設備
- UV光固機
- 注射泵
- 氣體分析儀
- 電池制備
- 超硬刀具焊接爐
- 環(huán)境模擬試驗設備
- 實驗室產(chǎn)品配件
- 實驗室鍍膜耗材
- 其他產(chǎn)品
產(chǎn)品詳情
簡單介紹：
迷你高壓管式爐由加熱系統(tǒng)、耐高溫高壓爐管和壓力測控系統(tǒng)三大部分構成，迷你高壓管式爐可以實現(xiàn)自動沖壓，超壓釋放，自動控溫三大功能。
詳情介紹：
TN-H1200-1L迷你高壓管式爐
mini高壓管式爐主要由：加熱系統(tǒng)、耐高溫高壓爐管和壓力測控系統(tǒng)三大部分構成?？梢詫崿F(xiàn)自動沖壓，超壓釋放，自動控溫三大功能。并配有工藝軟件，可實現(xiàn)燒結過程中數(shù)據(jù)的全程采集，為實驗數(shù)據(jù)的分析和研究提供*真實可靠的依據(jù)。
應用
該設備可廣泛用于納米材料高溫高壓處理，特種功能陶瓷的高溫高壓燒結；高溫高壓調制的方法來改變材料的熱學性能和導電性能。
技術參數(shù)
|
供電電壓 |
AC220V/110V，50Hz/60Hz |
|
整機功率 |
2KW |
|
工作溫度 |
≤1100℃ |
|
加熱速率 |
建議10℃/min |
|
熱電偶類型 |
K型熱電偶 |
|
爐管尺寸 |
O.D.φ60mm I.D φ25 xφ L. 600mm |
|
爐管材料 |
超高溫合金 |
|
密封法蘭 |
耐壓法蘭 |
|
壓力測量 |
半導體壓力計 |
|
過壓保護 |
**放氣閥 |
|
加熱溫區(qū) |
單溫區(qū)200mm |
|
溫度控制 |
1）PID全自動控制加熱速率，冷卻速率以及保溫時間 2）PID控制超溫保護和斷偶保護 3）超溫保護在報警功能使該設備可在無人看管的情況下運行 4）溫度精度在±1℃（即顯示的溫度和實際溫度差） 5）AI-PID三十段工藝曲線，可儲存多條 6）控溫精度±1℃ |
|
工作壓力 |
≤4Mpa @800℃ ≤2.5Mpa @900℃ ≤1.2Mpa @1000℃ ≤0.8Mpa @1100℃ |
|
工作氣體 |
氮氣、氬氣、氧氣等非腐蝕性氣體 |
相關產(chǎn)品
