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產(chǎn)品詳情
  • 產(chǎn)品名稱:桌面型下置靶不銹鋼腔體單靶磁控濺射鍍膜儀

  • 產(chǎn)品型號:CY-MSZ180X-I-DC-SS
  • 產(chǎn)品廠商:成越科儀
  • 產(chǎn)品文檔:
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簡單介紹:
本設(shè)備為桌面型下置靶不銹鋼腔體單靶磁控濺射鍍膜儀,可用于金屬薄膜的制備,在電子領(lǐng)域、光學領(lǐng)域、特殊陶瓷制備等領(lǐng)域均有應用,也可實驗室SEM樣品制備
詳情介紹:

本設(shè)備為桌面型下置靶不銹鋼腔體單靶磁控濺射鍍膜儀,可用于金屬薄膜的制備,在電子領(lǐng)域、光學領(lǐng)域、特殊陶瓷制備等領(lǐng)域均有應用,也可實驗室SEM樣品制備。

本套配置采用高真空不銹鋼腔體,腔體設(shè)置帶擋板的石英觀察窗,便于實驗的觀察記錄;腔體設(shè)計真空性能優(yōu)良,造型小巧,十分適合實驗室使用。

設(shè)備采用下置靶設(shè)計,和上置靶相比這種設(shè)計能夠更好的規(guī)避屏蔽罩因長時間鍍膜而產(chǎn)生的薄膜碎片脫落的問題,可以更有效的保護樣品。

同時設(shè)備配有旋轉(zhuǎn)加熱樣品臺,可以有效提高薄膜的均勻性和成膜的質(zhì)量。整機采用模塊化設(shè)計,操作邏輯簡單,操作界面直觀,利于上手。

磁控濺射鍍膜儀

單靶磁控濺射鍍膜儀技術(shù)參數(shù):

產(chǎn)品名稱

桌面型下置靶不銹鋼腔體單靶磁控濺射鍍膜

產(chǎn)品型號

CY-MSZ180X-I-DC-SS

樣品臺

外形尺寸

φ100mm

加熱溫度

≦500℃

可調(diào)轉(zhuǎn)速

≦20rpm

磁控靶槍

配一支兩英寸磁控靶,靶材尺寸:直徑50.8mm,厚度≦3mm

真空腔體

腔體尺寸

φ180mm X 215mm

觀察窗口

全向透明

腔體材料

SUU304不銹鋼

開啟方式

上頂開式

真空系統(tǒng)

前級泵

低噪音雙極旋片泵

分子泵

低噪音大抽速渦輪分子泵

真空測量

復合真空計,量程:10-5~105Pa

抽氣接口

KF16

抽氣接口

KF40

排氣接口

KF16

系統(tǒng)真空

1.0×10-4Pa

供電電源

AC 220V 50/60Hz

抽氣速率

分子泵抽速600L/s,前級抽速1.1L/s 

電源配置

電源數(shù)量

直流電源一套

輸出功率

300W

其他參數(shù)

供電電壓

AC220V,50Hz

整機功率

2kW

整機尺寸

550mm X 350mm X400mm



豫公網(wǎng)安備 41019702002438號

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