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產(chǎn)品詳情
  • 產(chǎn)品名稱:三靶磁控濺射鍍膜儀(直流+射頻)

  • 產(chǎn)品型號:CY-MSH300-III-DCDCRF-SS?
  • 產(chǎn)品廠商:成越科儀
  • 產(chǎn)品文檔:
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簡單介紹:
三靶磁控濺射鍍膜儀(直流+射頻)我公司研發(fā)的實驗室專用鍍膜儀,典型的高速低溫濺射。三靶磁控濺射鍍膜儀(直流+射頻)可選配直流電源,和射頻電源,功率從500W-1000W不等。
詳情介紹:
CY-MSH325-III-DCDCRF-SS三靶磁控濺射鍍膜儀(直流+射頻)為我公司研發(fā)的實驗室專用鍍膜儀,設備可選配直流電源,和射頻電源,功率從500W-1000W不等,可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學薄膜等。
磁控濺射相較于普通的等離子濺射擁有能量高速度快的優(yōu)點,鍍膜速率高,樣品溫升低,是典型的高速低溫濺射。磁控靶配有水冷夾層,水冷機能夠有效的帶走熱量,避免熱量在靶面聚集,使磁控鍍膜能長時間穩(wěn)定工作。

設備經(jīng)過緊湊化設計,實現(xiàn)了體積與性能的平衡,造型美觀功能齊全。整機均采用觸控屏控制,內(nèi)置一鍵式鍍膜程序,操作簡單易上手,是一款實驗室制備薄膜的理想設備。

技術參數(shù):

項目

明細

產(chǎn)品型號

CY-MSH300-III-DCDCRF-SS

供電電壓

AC220V,50Hz

整機功率

4KW

系統(tǒng)真空

5×10-4Pa

樣品臺

尺寸

φ140mm

控溫精度

±1

加熱溫度

*500

轉速

1-20rpm可調(diào)

磁控濺射頭

數(shù)量

2 x3 1,2”可選)

水冷機規(guī)格

10L/min流速的循環(huán)水冷機

冷卻方式

水冷

真空腔體

腔體尺寸

Dia.300mm×300mm

觀察窗口

φ100mm

開啟方式

上頂開式

腔體材料

不銹鋼

質(zhì)量流量計

2路;量程100sccm;100sccm(可根據(jù)客戶需要定制多路氣路)

真空系統(tǒng)

產(chǎn)品型號

CY-GZK103-A

抽氣接口

CF160

分子泵

CY-600

排氣接口

KF40

前極泵

旋片泵

真空測量

復合真空計

極限真空

1.0E-5Pa

供電電源

AC;220V 50/60Hz

抽氣速率

分子泵:600L/S  旋片泵:1.1L/S  綜合抽氣性能:20分鐘真空度可達: 1.0E-3Pa

電源配置

數(shù)量

直流電源x2  射頻電源 x1

*大輸出功率

直流電源500W 射頻電源500W

膜厚測量

可選配石英晶體膜厚儀,分辨率0.10 ?

控制系統(tǒng)

CYKY自研專業(yè)級控制系統(tǒng)

整機尺寸

600mm X 650mm X 1280mm

整機重量

300kg





豫公網(wǎng)安備 41019702002438號

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